鍍鎳
當前釹鐵硼鍍鎳普遍采用鎳/銅/鎳復合鍍層體系。
預鍍鎳的目的是為后續鍍銅提供一層正向、結構致密的底鍍，確保后續銅正常施鍍，防止基體被銅液腐蝕，確保鍍層與基體的結合力及深鍍能力等。
預鍍銅具有良好的結合力和深鍍性能，但由于預鍍銅屬于絡合型鍍液，且溶液電流效率低，不能在松散多孔的釹鐵硼基體上得到連續合格的銅鍍層，因此很難在釹鐵硼基體上打底。
釹鐵硼預鍍鎳多采用瓦特型鍍鎳工藝，適量使用半光亮鎳添加劑，其目的不是追求亮度，而是利用陰極電流密度大，有利于鍍層快速沉積。
瓦特型鎳鍍液也屬于簡單鹽鍍液的類型，由于需要在釹鐵硼基體上直接施鍍，對鍍液、輥筒和操作等方面的要求和釹鐵硼鍍鋅的要求差不多。
一般而言，釹鐵硼件鎳層的平均厚度應不少于4~5μm，以確保在低電流密度區域內充分覆蓋鍍層，防止后續鍍銅液對基體的腐蝕。
鍍銅
釹鐵硼件鍍銅指預鍍鎳與面層鎳層之間的中間鍍銅，其目的是要依靠銅層來增加鍍層的總厚度，從而降低面鎳層的厚度。
鎳-銅-鎳復合鍍銅工藝在釹鐵硼件上不穩定是其主要缺陷。
業界一致認為，電鍍銅采用氰化工藝，鍍液穩定，抗污染能力強，深鍍性好，鍍層光亮均勻，柔軟，受力低，各方面性能均衡穩定。
但是，氰化物屬于劇毒物質，國家對其管理和使用有嚴格的限制，目前只有少數廠家采用此工藝。
酸鍍銅工藝對預鍍層要求極高，稍加控制不好就會導致釹鐵硼基體腐蝕，而且酸性鍍銅鍍半光亮鎳打底結合力差，而釹鐵硼一般采用半光亮鎳打底，因此在當前釹鐵硼鍍鎳/銅/鎳體系中，不建議采用滾鍍銅工藝。
鑫磊磁電小編了解到釹鐵硼鍍銅目前主要采用焦磷酸鹽鍍銅工藝，其次是檸檬酸鹽鍍銅工藝。兩種工藝均對鍍層質量有較高要求，否則就會產生置換銅現象，影響鍍層結合力，污染鍍液。在生產中，釹鐵硼滾鍍焦磷酸銅的溶液的穩定性較差，說明該釹鐵硼基體逐漸被鍍液腐蝕，產品被鍍液污染。
